一、什么是光刻胶
光刻胶是芯片制造光刻工艺中的"感光胶水"，光通过光罩照在涂了光刻胶的晶圆上，把电路图案转移到晶圆上。按光源波长分：KrF（248nm，中端）、ArF（193nm，高端）、EUV（极紫外，7nm以下）。
二、为什么光刻胶是国产替代最紧迫环节
外企垄断
东京应化、JSR、信越化学垄断全球80%+份额。美国施压日本断供后，国产化势在必行。
晶圆厂扩产
中芯国际、华虹、长江存储等持续扩产，光刻胶需求每年两位数增长。成熟制程国产光刻胶已批量供货。
政策支持
光刻胶被列入国家重大新材料清单，南大光电、彤程新材等ArF光刻胶已通过客户认证。
三、投资逻辑
利好
外企垄断国产替代迫切+晶圆厂扩产需求+政策支持
风险
产值小估值炒到几百倍PE+认证周期长+竞争格局差
四、核心标的
南大光电：ArF光刻胶已通过客户认证，国产进度领先。彤程新材：KrF光刻胶量产，ArF在研。华懋科技：光刻胶子公司彤程电子。
五、实战提示
跟踪指标
认证进展：通过下游晶圆厂认证是核心催化剂。散户注意：光刻胶产值小但估值炒到几百倍PE，不是普通人能理解的，看看就好别当真。